出典:デジタル大辞泉(小学館)

極紫外線(EUV)を光源に用いるフォトリソグラフィー。10ナノメートルまたはそれより短い波長の光によって、従来のエキシマレーザーよりも半導体集積回路の微細化が可能となる。極紫外線リソグラフィー。極端紫外線リソグラフィー。EUVL(extreme ultraviolet lithography)。