プラズマエッチング（plasma etching）とは？意味・読み方・使い方

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プラズマ‐エッチング【plasma etching】
の解説

プラズマを用いて、半導体集積回路などの微細回路を作製する方法。プラズマ中に試料をさらすことにより、不必要な部分の原子を化学的または物理的に取り去る。特に、プラズマ中の活性イオンと反応気化させて不要原子を取り去るプロセスを反応性イオンエッチング（RIE）と呼ぶ。→ドライエッチング

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出典：デジタル大辞泉（小学館）

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