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物理気相成長法の一。原料をプラズマ真空放電イオン化または励起状態にして電場によって加速し、負電位にした基板に薄膜を蒸着させる。酸化膜を形成するため通常のめっきが困難なチタンやアルミニウムなどの表面処理に利用される。イオンめっき。

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