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メタンを構成する水素原子1個を弗素原子1個と置換した化合物。ハイドロフルオロカーボン(HFC)に分類される代替フロンの一。半導体集積回路の製造工程において、ドライエッチングの洗浄剤として用いられる。モノフルオロメタン。弗化メチル。HFC-41。化学式CH3F