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原料を含む混合ガスを加熱した基板の上に流し、熱分解などの化学反応によって表面に結晶や非晶質の薄膜蒸着させる方法半導体素子の製造過程において、絶縁体や金属などの薄膜形成するのに欠くことのできない重要技術。化学蒸着法。化学気相堆積法。化学気相反応法。CVD(chemical vapor deposition)。

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