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ステッパースキャナーなどの半導体露光装置で、レンズとシリコンウエハーの間を超純水で満たし、高い解像度で集積回路のパターンを焼き付ける技術。従来、光学顕微鏡で用いられていた液浸法を適用したもので、数十ナノメートル以下の製造プロセスが可能になった。