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物理気相成長法（ぶつりきそうせいちょうほう） の意味

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出典：デジタル大辞泉（小学館）

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ぶつりきそう‐せいちょうほう〔ブツリキサウセイチヤウハフ〕【物理気相成長法】
の解説

原料をプラズマやレーザーで加熱して蒸発させ、対象とする基板や金属の表面に、物理的に薄膜を蒸着させる方法。分子線エピタキシー、スパッタリング、イオンプレーティングなどの手法があり、半導体素子の製造、工具や金型の表面処理に利用される。物理蒸着法。PVD（physical vapor deposition）。

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