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半導体集積回路などの製造方法の一つ。シリコンウエハー上に電子線レジストなどの感光材を塗布し、レチクル(フォトマスク)と呼ばれる回路原版を重ね、電子線を照射して転写する。フォトリソグラフィーよりも微細な加工が可能。電子線を基板に直接照射して回路パターンを刻み込む手法もある。Eビームリソグラフィー。

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