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極紫外線(EUV)を光源に用いるフォトリソグラフィー。10ナノメートルまたはそれより短い波長の光によって、従来のエキシマレーザーよりも半導体集積回路の微細化が可能となる。極紫外線リソグラフィー。極端紫外線リソグラフィー。EUVL(extreme ultraviolet lithography)。

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