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えんしがいせん‐レジスト【遠紫外線レジスト】
遠紫外線を光源とするフォトレジスト。KrF(クリプトン・弗素(ふっそ)、波長248ナノメートル)、ArF(アルゴン・弗素(ふっそ)、波長193ナノメートル)のエキシマレーザーなどが用いられる。