出典:gooニュース
EUV露光回路補正…東京エレクトロン、「ガスクラスタービーム装置」投入
EUV露光工程の最適化に加え、リソグラフィー欠陥の低減に役立ててもらう。EUV露光は先端半導体の製造には不可欠。一方、EUV露光装置の運転には大量の電力を使用するなどの課題もある。 【関連記事】 世界の半導体工場で、揺るぎない信頼を集めるクリーン搬送装置
「EUV露光」導入・保守に1.5倍600人、蘭ASMLが日本増員に動く狙い
半導体露光装置大手の蘭ASMLは日本法人の人員を2026年末までに現在の約1・5倍となる約600人規模まで増やす計画だ。24年中にはラピダス(東京都千代田区)が北海道のパイロットラインに、日本で初めて極端紫外線(EUV)露光装置を導入。25年には米マイクロン・テクノロジーも広島県内の工場に導入する計画。
半導体製造後工程、露光装置の知見生かすキヤノンの戦略
キヤノンの露光装置は、4回の露光をつなげることで100ミリ×100ミリメートルの大型パッケージに対応する。 二つ目がシリコンブリッジだ。シリコンブリッジはコストが高いが微細配線ができるシリコンインターポーザーと、コストは安いが微細配線が難しいパネルインターポーザーを組み合わせたもの。
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