イオン‐ビーム【ion beam】
原子から取り出したイオンを高速加速して得られる光線状の流れ。固体に当てると内部にイオンがもぐりこむのを利用して、半導体への不純物注入や集積回路の作製、金属の表面加工などに用いられる。
いりょう‐モール【医療モール】
診療科目の異なる複数の診療所と調剤薬局が同じ建物・敷地に集積した施設。
インジウム‐りん【インジウム燐】
インジウムとリンよりなるⅢ-Ⅴ族化合物半導体。他のⅢ-Ⅴ族半導体より熱伝導率が大きく、電子のドリフト速度が大きいので、高集積回路、高速動作電子デバイスに向いている。
イー‐アール‐オー‐エス【EROS】
《Center for Earth Resources Observation and Science》地球資源観測科学部。米国内務省地質測量局の部局。地質や地形に関するデータの集積・提供、研究...
イー‐ディー‐エー【EDA】
《electronic design automation》コンピューターを用いて、電子回路の設計を自動化すること。半導体集積回路の複雑な回路設計や検証作業を容易に行うことができる。電子設計自動...
イーユーブイ‐リソグラフィー【EUVリソグラフィー】
極紫外線（EUV）を光源に用いるフォトリソグラフィー。10ナノメートルまたはそれより短い波長の光によって、従来のエキシマレーザーよりも半導体集積回路の微細化が可能となる。極紫外線リソグラフィー。...
ウエット‐エッチング【wet etching】
半導体集積回路などの微細回路を作製する際、溶液中に回路基板を浸し、不必要な部分を腐食・分解して取り去ること。湿式エッチング。→エッチング3
ウエハー【wafer】
半導体の薄片でできている、集積回路をつくるための基板。
えい【叡】
理化学研究所などが共同で開発した、初の国産超伝導量子コンピューター。令和5年（2023）に運用開始。64個の超伝導量子ビットで構成される（稼働当初は53量子ビット）。コヒーレンス時間は10〜20...
えきしん‐ろこう【液浸露光】
ステッパーやスキャナーなどの半導体露光装置で、レンズとシリコンウエハーの間を超純水で満たし、高い解像度で集積回路のパターンを焼き付ける技術。従来、光学顕微鏡で用いられていた液浸法を適用したもので...
