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半導体集積回路などの製造工程で使われるフォトレジストという感光材料のうち、光に反応して自ら酸を発生させ、薬品への溶けやすさを増幅するはたらきをもつもの。1980年代に実用化され、フォトリソグラフィーの微細化と集積度の飛躍的な向上につながった。化学増幅型レジスト。CAレジスト。

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