かがくぞうふくレジスト【化学増幅レジスト】
半導体集積回路などの製造工程で使われるフォトレジストという感光材料のうち、光に反応して自ら酸を発生させ、薬品への溶けやすさを増幅するはたらきをもつもの。1980年代に実用化され、フォトリソグラフィーの微細化と集積度の飛躍的な向上につながった。化学増幅型レジスト。CAレジスト。
かがくぶっしつあんぜんせいデータシート【化学物質安全性データシート】
⇒エム‐エス‐ディー‐エス（MSDS）
かがくぶっしつはいしゅつはあくかんりそくしんほう【化学物質排出把握管理促進法】
《「特定化学物質の環境への排出量の把握等及び管理の改善の促進に関する法律」の略称》事業者による化学物質の自主的な管理の改善を促進し、環境の保全上の支障を未然に防止することを目的とする法律。平成11年（1999）7月に制定。平成13年（2001）1月より段階的に施行。人体や環境に有害な化学物質の排出量・移動量を集計・公表する環境汚染物質排出移動登録（PRTR）制度と、取引先の事業者などに化学物質を提供・譲渡する際、その特性・取扱いに関する情報を付与することを義務づける化学物質安全データシート（MSDS）制度からなる。化管法。PRTR法。
かがくひん【化学品】
化学的に合成された物質を含む製品や、化学的な工程で製造された製品。化成品。
かがくへいききんしきかん【化学兵器禁止機関】
⇒オー‐ピー‐シー‐ダブリュー（OPCW）
かがくきそうじょうちゃくほう【化学気相蒸着法】
⇒化学気相成長法
かがくきそうせいちょうほう【化学気相成長法】
原料を含む混合ガスを加熱した基板の上に流し、熱分解などの化学反応によって表面に結晶や非晶質の薄膜を蒸着させる方法。半導体素子の製造過程において、絶縁体や金属などの薄膜を形成するのに欠くことのできない重要な技術。化学蒸着法。化学気相堆積法。化学気相反応法。CVD（chemical vapor deposition）。
かがくきそうたいせきほう【化学気相堆積法】
⇒化学気相成長法
かがくきそうはんのうほう【化学気相反応法】
⇒化学気相成長法
かがくじょうちゃくほう【化学蒸着法】
⇒化学気相成長法
