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原料をプラズマやレーザーで加熱して蒸発させ、対象とする基板や金属の表面に、物理的に薄膜を蒸着させる方法。分子線エピタキシー、スパッタリング、イオンプレーティングなどの手法があり、半導体素子の製造、工具や金型の表面処理に利用される。物理蒸着法。PVD（physical vapor deposition）。
出典：デジタル大辞泉（小学館）
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