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ステッパースキャナーなどの半導体露光装置で、レンズとシリコンウエハーの間を超純水で満たし、高い解像度で集積回路のパターンを焼き付ける技術従来光学顕微鏡で用いられていた液浸法適用したもので、数十ナノメートル以下の製造プロセス可能になった。

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